1 Rietveld法结构精修
  1.1  Rietveld法结构精修发展概况
  1.2  Rietveld法基本原理
  1.3  参数修正顺序与结果判据
    1.3.1  参数修正的顺序
    1.3.2  精修的数值判据
    1.3.3  精修的图示判断
  1.4  精修过程出现的问题和对策
  1.5  Rietveld法结构精修的应用
    1.5.1  修正晶体结构
    1.5.2  相变研究和点阵常数测定
    1.5.3  物相定量分析
    1.5.4  晶粒尺寸和微应变测定
2 EXPGUI-GSAS软件安装与界面介绍
  2.1  GSAS软件简介
  2.2  EXPGUI-GSAS软件的安装
  2.3  EXPGUI-GSAS软件界面介绍
    2.3.1  菜单栏
    2.3.2  选项卡界面
    2.3.3  EXPGUI帮助内容
3 EXPGUI-GSAS结构精修起步
  3.1  精修前的准备工作
    3.1.1  衍射数据的测定
    3.1.2  衍射数据的转换
    3.1.3  初始结构的获取
  3.2  EXPGUI精修简单示例
    3.2.1  生成EXP文件
    3.2.2  精修过程
    3.2.3  常见问题
  3.3  精修结果提取与绘图
    3.3.1  精修结果提取
    3.3.2  精修图谱绘图
  3.4  空间群设定问题及图谱精修范围设定
    3.4.1  空间群设定问题及解决
    3.4.2  设定精修角度范围
  3.5  定制EXPGUI
    3.5.1  设定打开EXPGUI后默认文件夹位置
    3.5.2  定制EXPGUI的快捷按钮栏
4 EXPGUI-GSAS提高练习
  4.1  仪器参数文件的建立
    4.1.1  基本知识
    4.1.2  操作过程
  4.2  物相（含非晶）定量分析
    4.2.1  基本原理
    4.2.2  衍射数据测试
    4.2.3  精修过程
  4.3  Le Bail法拟合及占位修正（约束的使用）
    4.3.1  问题描述
    4.3.2  精修过程
  4.4  计算晶粒大小及微观应变
    4.4.1  基本原理
    4.4.2  具体步骤
    4.4.3  晶粒尺寸和微观应变计算示例
  4.5  利用已有EXP进行单个数据及批量精修
    4.5.1  利用已有EXP进行单个数据精修
    4.5.2  批量精修
参考文献