前言
第1章  　晶体生长理论基础　
  1.1  　引言　
  1.2  　晶体生长技术的分类　
    1.2.1  　气相生长法　
    1.2.2  　液相生长法　
    1.2.3  　固相生长法　
  1.3  　晶体生长的热力学原理　
    1.3.1  　气-固相转变过程　
    1.3.2  　液-固相转变过程　
  1.4  　晶体生长理论构造模型　
    1.4.1  　晶体层生长理论　
    1.4.2  　晶体螺旋生长理论　
  1.5  　溶液法晶体生长理论基础　
    1.5.1  　溶液法晶体生长的基本原理　
    1.5.2  　溶液中晶体生长过程的物理化学基础　
  1.6  　熔体生长晶体理论基础　
    1.6.1  　熔体生长过程的特点　
    1.6.2  　结晶过程驱动力　
    1.6.3  　熔体生长过程的物理化学基础　
  参考文献　
第2章  　相图及其在晶体生长中的应用　
  2.1  　相图的基本概念　
    2.1.1  　几个基本概念　
    2.1.2  　相律　
  2.2  　杠杆定律　
  2.3  　相图的分类　
    2.3.1  　单组元相图　
    2.3.2  　二元系相图　
    2.3.3  　三元系相图　
  2.4  　相图的实验测定与绘制　
    2.4.1  　差热分析基本原理　
    2.4.2  　X射线粉末衍射原理　
    2.4.3  　相图的测定和绘制　
  2.5  　相图在晶体生长中的应用　
    2.5.1  　相图在铌酸锂晶体生长中的应用　
    2.5.2  　相图在紫外双折射高温相?-BaB2O4晶体生长中的应用　
  参考文献　
第3章  　水溶液晶体生长技术　
  3.1  　溶液和溶解度　
    3.1.1  　溶液的概念　
    3.1.2  　溶解度和溶解度曲线　
    3.1.3  　饱和温度和溶解度的测定　
  3.2  　水溶液法晶体生长的基本原理和方法　
    3.2.1  　溶剂蒸发法　
    3.2.2  　温差法　
    3.2.3  　降温法　
  3.3  　影响水溶液晶体生长的主要因素　
    3.3.1  　杂质的影响　
    3.3.2  　pH的影响　
    3.3.3  　过饱和度的影响　
  参考文献　
第4章  　助熔剂法晶体生长技术　
  4.1  　引言　
  4.2  　助熔剂法晶体生长技术的基本原理和生长技术方法　
    4.2.1  　助熔剂法晶体生长技术的基本原理　
    4.2.2  　自发成核法　
    4.2.3  　籽晶法　
  4.3  　助熔剂的选择　
    4.3.1  　助熔剂的选择原则　
    4.3.2  　助熔剂和熔液的物理化学性能　
    4.3.3  　助熔剂的类型　
  4.4  　混料设计在助熔剂探索中的应用　
    4.4.1  　混料设计概述　
    4.4.2  　混料设计指导复合助熔剂探索实验方案　
    4.4.3  　混料设计指导复合助熔剂探索应用实例　
  4.5  　助熔剂法晶体生长技术的优缺点　
    4.5.1  　助熔剂法晶体生长技术的优点　
    4.5.2  　助熔剂法晶体生长技术的缺点　
  参考文献　
第5章  　水热法晶体生长技术　
  5.1  　水热法晶体生长技术的基本原理　
  5.2  　水热结晶的物理化学性能　
    5.2.1  　高温高压下水的物理化学性能　
    5.2.2  　水热系统中的压强-体积-温度特性　
  5.3  　水热法晶体生长装置　
  5.4  　水热法晶体生长技术的工艺过程　
  5.5  　影响水热法晶体生长的因素　
    5.5.1  　温度对晶体生长的影响　
    5.5.2  　溶液填充度对晶体生长的影响　
    5.5.3  　溶液浓度对晶体生长的影响　
    5.5.4  　培养料的溶解表面积与籽晶生长表面积之比对晶体生长速率的影响　
    5.5.5  　溶液pH对晶体生长的影响　
    5.5.6  　对流挡板对晶体生长的影响　
  5.6  　水热法晶体生长技术的优缺点　
    5.6.1  　水热法晶体生长技术的优点　
    5.6.2  　水热法晶体生长技术的缺点　
  参考文献　
第6章  　焰熔法晶体生长技术　
  6.1  　焰熔法晶体生长的基本原理　
  6.2  　焰熔法晶体生长装置　
    6.2.1  　原料供应系统　
    6.2.2  　燃烧系统　
    6.2.3  　晶体生长系统　
  6.3  　焰熔法晶体生长技术的工艺过程　
  6.4  　焰熔法晶体生长技术的优缺点与晶体缺陷　
  6.5  　焰熔法晶体生长技术的主要应用领域　
    6.5.1  　焰熔法在合成星光刚玉宝石方面的应用　
    6.5.2  　合成宝石鉴别　
  参考文献　
第7章  　提拉法晶体生长技术　
  7.1  　提拉法晶体生长技术的热力学基础　
    7.1.1  　提拉法晶体生长技术基本原理　
    7.1.2  　结晶过程的驱动力　
    7.1.3  　提拉法晶体生长技术的热传递方式　
    7.1.4  　界面热流连续方程　
    7.1.5  　晶体中的温度分布　
  7.2  　提拉法晶体生长技术的基本装置和工艺　
    7.2.1  　提拉法晶体生长技术的基本装置　
    7.2.2  　提拉法晶体生长的一般工艺过程　
  7.3  　提拉法晶体生长中缺陷形成和控制　
    7.3.1  　晶体中常见的几种缺陷　
    7.3.2  　物质条件对晶体质量的影响和控制　
    7.3.3  　热力学因素对晶体质量的影响和控制　
    7.3.4  　分凝和组分过冷　
    7.3.5  　温度分布、温度波动与晶体生长条纹　
  7.4  　提拉法晶体生长技术的优缺点　
  参考文献　
第8章  　坩埚下降法晶体生长技术　
  8.1  　坩埚下降法晶体生长技术的基本原理　
  8.2  　坩埚下降法晶体生长装置　
  8.3  　坩埚下降法晶体生长技术的基本工艺与要求　
    8.3.1  　坩埚　
    8.3.2  　基本生长工艺流程　
    8.3.3  　晶体生长的传热过程和温场设计　
    8.3.4  　生长速率和固-液界面移动的控制　
    8.3.5  　Bridgman法晶体生长过程的结晶界面的控制及其控制原理　
    8.3.6  　籽晶定向生长　
  8.4  　坩埚下降法晶体生长技术的特点　
  参考文献　
第9章  　几种重要光电子晶体材料的生长　
  9.1  　非线性光学晶体低温相偏硼酸钡β-BBO的顶部籽晶助熔剂法生长　
    9.1.1  　低温相偏硼酸钡β-BBO的结构和基本非线性光学性能　
    9.1.2  　β-BBO晶体生长　
  9.2  　紫外双折射晶体高温相偏硼酸钡β-BBO的提拉法生长　
    9.2.1  　高温相偏硼酸钡β-BBO的结构和基本双折射性能　
    9.2.2  　β-BBO晶体生长　
  9.3  　双折射晶体YVO4和激光晶体Nd3+：YVO4提拉法生长　
    9.3.1  　YVO4和Nd3+：YVO4晶体结构和光学性能　
    9.3.2  　YVO4和Nd3+：YVO4晶体生长　
  9.4  　非线性光学晶体磷酸氧钛钾的水热法生长　
    9.4.1  　磷酸氧钛钾晶体结构和非线性光学性能　
    9.4.2  　磷酸氧钛钾水热法晶体生长　
  9.5  　大尺寸非线性光学晶体磷酸二氢钾水溶液生长　
    9.5.1  　磷酸二氢钾晶体结构和基本光学性能　
    9.5.2  　大尺寸磷酸二氢钾晶体生长　
  9.6  　紫外非线性光学晶体大尺寸三硼酸锂的顶部籽晶助熔剂法生长　
    9.6.1  　三硼酸锂晶体结构和基本光学性能　
    9.6.2  　三硼酸锂晶体生长　
  参考文献