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晶体生长的物理基础(精)
ISBN:9787305225369
作者:作者:闵乃本
定价:¥98.0
出版社:南京大学
版次:第1版
印次:第1次印刷
开本:4 精装
页数:376页
商品详情
目录

绪论
第一章  温场和热量传输
  第一节  炉膛内温场的描述
    一、温场
    二、温场的实验描述
    三、稳态温场
  第二节  从能量守恒原理讨论晶体生长工艺
    一、能量守恒方程
    二、晶体直径的控制
    三、晶体的极限生长速率
    四、放肩阶段
    五、晶体旋转对直径的影响
  第三节  能量守恒的微分形式和一维稳态温场
    一、温场的数学描述
    二、能量守恒的微分形式
    三、一维稳态温场
  第四节  晶体中的温场
  第五节  坩娲中液面位置及辐射屏对温场的影响
    一、坩场中液面位置对温场的影响
    二、辐射屏对晶体中温场的影响
  第六节  晶体生长过程中直径的惯性和直径响应方程
    一、直径的惯性
    二、温度边界层
    三、直径响应方程
  第七节  非稳温场和温度波
第二章  溶质分凝和质量传输
  第一节  固溶体和溶液
  第二节  溶液的凝固和平衡分凝系数
  第三节  溶质浓度场和溶质守恒
  第四节  溶质保守系统中的浓度场
    一、属于溶质保守系统的生长方法
    二、在准静态生长过程中的溶质分布
    三、溶质的扩散效应
    四、对流对溶质分凝的影响及有效分凝系数
    五、直拉法生长中晶体旋转对溶质分凝的影响
  第五节  溶质非保守系统中的浓度场
    一、属于溶质非保守系统的生长方法
    二、溶质非保守系统的分凝理论—区熔理论
    三、扩散占优势的溶质边界层与熔区的相似性
    四、多次区熔的极限分布
    五、温度梯度区域熔化—TGZM
  第六节  直拉法生长过程中的溶质均化
    一、计划速率法
    二、溶液稀释法
    三、溶液补充法
    四、层熔法
第三章  热量、质量的混合传输
  第一节  混合传输
  第二节  实验模拟和数字模拟
    一、实验模拟
    二、数字模拟
  第三节  相似流动
    一、相似流动—雷诺数和弗鲁得数
    二、模拟实验的设计
  第四节  坩娲中的自然对流
    一、非等温系统和非等浓度系统中的浮力
    二、水平温差和浓度差引起的自然对流—格拉斯霍夫数
    三、铅直温差和浓度差引起的自然对流—瑞利数
  第五节  混合传输的相似性原理
  第六节  生长过程中液流的转变与界面翻转
    一、自然对流向强迫对流的转变
    二、界面翻转
第四章  生长速率起伏和生长层
第五章  界面稳定性和组分过冷
第六章  相平衡和相图
第七章  界面的宏观性质与微观结构
第八章  成核
第九章  生长动力学
第十章  生长过程中位错的产生、延伸和分布

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